一、鋁合金硬質(zhì)氧化的優(yōu)勢：1、鋁合金硬質(zhì)氧化后表面硬度最高可達HV500左右。2、氧化膜厚度25-250um。3、附著力強，根據(jù)硬質(zhì)氧化所生成的氧化特點：所生成的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面（雙向生長）。4、絕緣性好：擊穿電壓可達2000V（完善的封孔）。5、耐磨性能好：對于含銅量未超過2%
的鋁合金其最大的磨耗指數(shù)為3.5mg/1000轉(zhuǎn)。其他所有的合金磨耗指數(shù)不應(yīng)超過1.5mg/1000轉(zhuǎn)。6、無毒：氧化膜和用來生產(chǎn)陽極氧化膜的電化學(xué)工藝應(yīng)對人體無害。因此很多行業(yè)為了減輕產(chǎn)品的重量、機械加工的方便、環(huán)保低毒等要求，目前有的部分產(chǎn)品中的部份零部件由鋁合金硬質(zhì)氧化來代替不銹鋼、電鍍硬鉻等工藝。
二、硬質(zhì)陽極氧化和普通陽極氧化的區(qū)別：硬質(zhì)氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內(nèi)部，50%附著在鋁合金表面，因此硬質(zhì)氧化后產(chǎn)品外部尺寸變大，內(nèi)孔變小。
（一）操作條件方面的差異：
1、溫度不同：普通氧化18-22℃左右，有添加劑的可以到30℃，溫度過高易出現(xiàn)粉
末或裂紋；硬質(zhì)氧化一般在5℃以下，相對來說溫度越低硬質(zhì)越高。
2、濃度差異：普通氧化一般20%左右；硬質(zhì)氧化一般在15%或更低。
3、電流/電壓差異：普通氧化電流密度一般：1-1.5A/dm2；而硬質(zhì)氧化：1.55A/dm2；普通氧化電壓≤18V，硬質(zhì)氧化有時高達120V。
（二）膜層性能方面的差異：
1、膜層厚度：普通氧化膜層厚度相對較薄；硬質(zhì)氧化一般膜層厚度>15μm，過低達不到硬度≥300HV的要求。
2、表面狀態(tài)：普通氧化表面較光滑，而硬質(zhì)氧化表面較粗糙（微觀，和基體表面粗糙度有關(guān)）。
3、孔隙率不同：普通氧化孔隙率高；而硬質(zhì)氧化孔隙率低。
4、普通氧化基本是透明膜；硬質(zhì)氧化由于膜厚，為不透明膜。
5、適用場合不同：普通氧化適用于裝飾為主；而硬質(zhì)氧化以功能為主，一般用于耐磨、耐電的場合。
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