陽極鋁氧化和普通鋁氧化的區別:
陽極鋁氧化的氧化膜有50%滲透在鋁合金內部,50%附著在鋁合金表面,因此鋁氧化后產品外部尺寸變大,內孔變小。
(一)操作條件方面的差異:
1、溫度不同:普通氧化18-22℃左右,有添加劑的可以到30℃,溫度過高易出現粉末或裂紋;鋁氧化一般在5℃以下,相對來說溫度越低硬質越高。
2、電流/電壓差異:普通氧化電流密度一般:1-1.5A/dm2;而鋁氧化:1.5-5A/dm2;普通氧化電壓≤18V,鋁氧化有時高達120V。
3、濃度差異:普通氧化一般20%左右;鋁氧化一般在15%或更低。
(二)膜層性能方面的差異:這些是我們平常用的較多的性能方面的比較,還有其他許多方面的差異。
1、普通氧化基本是透明膜;鋁氧化由于膜厚,為不透明膜。
2、表面狀態:普通氧化表面較光滑,而鋁氧化表面較粗糙(微觀,和基體表面粗糙度有關)。
3、孔隙率不同:普通氧化孔隙率高;而鋁氧化孔隙率低。
4、膜層厚度:普通氧化膜層厚度相對較薄;鋁氧化一般膜層厚度>15μm,過低達不到硬度≥300HV的要求。
5、適用場合不同:普通氧化適用于裝飾為主;而鋁氧化以功能為主,一般用于耐磨、耐電的場合。