進行硬質氧化時，由于鍍液酸性較強，也就非常容易腐蝕鎂合金的基體。硬質氧化的控制在電流密度3.0～4.0A/dm2之間、硬質氧化的時間控制20min左右，這樣可獲得致密性、結合力良好的氧化層。硬質氧化電流密度控制在2.0～3.0A/dm2之間、時間控制在10min以下，就可以得到結合力良好的氧化層。
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